ロード中...

花粉の時期にはぜひ!スキンモイストW <保湿乳液>50g


価格: 3,850 

在庫あり
10 日
3850 ポイント
バリア皮膜を形成し、皮膚を守る
  • 保水力と保湿・エモリエント効果に優れた特許成分配合
    特許成分:ポリグルコサミン誘導体(ポリグルコサミン+天然脂肪酸) ※1
  • イオン吸着とアンカーの“W効果”で、うるおいが続く
  • 低刺激で、肌なじみをよくするD相乳化法を採用
    D相乳化法:
    界面活性剤量を最小限に抑えて油分を水系に分散させることができる、乳化方法の1つです。 油分を高配合してもベタつきが少なく、クリーミーな使用感を実現しました。
  • 乾燥肌やレーザー・光治療後の敏感な肌におすすめ
 
イオン吸着とアンカーのW効果で、バリア皮膜を形成し、うるおいが持続

ご使用方法

  • 朝晩の洗顔、化粧水の後に、スキンモイストWを使用してください。
  • 適量を手に取り、肌にやさしくなじませてください。

    ※ レーザー・光治療後など、特に敏感な肌には、単品でもお使いいただけます。
    ※ 顔だけでなく、体にもお使いいただけます。

ご使用上の注意

開封後は、冷暗所で保管し、早めに使用してください。

  • 傷、湿しん等肌に異常のあるときは使用しないでください。
  • 肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。化粧品が肌に合わないとき即ち次のような場合には、使用を中断してください。そのまま化粧品類の使用を続けますと、症状を悪化させることがありますので、皮膚科専門医等にご相談されることをおすすめします。
    (1)使用中、赤み、はれ、かゆみ、刺激、色抜け(白斑等)や黒ずみ等の異常があらわれた場合
    (2)使用した肌に、直射日光があたって上記のような異常があらわれた場合
  • 保管及び取り扱い上の注意
    (1)乳幼児の手に届かないところに保管してください。
    (2)極端に高温又は低温の場所、直射日光のあたる場所には保管しないでください。

全成分

水、BG、グリセリン、パルミチン酸エチルヘキシル、ヘキサ(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸) ジペンタエリスリチル、ペンチレングリコール、リンゴ酸ジイソステアリル、水添パーム油、ステアリン酸 ポリグリセリル-10、キトサンステアラミドヒドロキシプロピルスルホン酸Na、スクワラン、ホホバ種子油、 マンダリンオレンジ果皮エキス、カルボマー、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、グルコシルセラミド、 アミノカプロン酸、アラントイン、グリチルリチン酸2K、α-グルカン、TEA、フェノキシエタノール

MADE IN JAPAN